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晶圓加熱載臺

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晶圓加熱載臺

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主要用途：用于加熱覆于子母環(huán)上的藍膜表面的芯粒；
加熱載盤(pán)可360度旋轉；
加熱溫度為室溫~80度可設。

產(chǎn)品詳細

上一個(gè)：襯體加熱平臺

下一個(gè)：切膜機

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